Une équipe de Haïfa produit le processeur le plus rapide d’Intel

L’équipe de recherche, qui a déjà développé les générations précédentes de processeurs, a réussi à créer un ensemble de transistors avec une finesse de gravure de quatorze nanomètres. Pour arriver à graver un motif de l’ordre d’un huit millième de la taille d’un cheveu, les chercheurs ont utilisé une méthode de lithographie optique de basse longueur d’onde. Ces processeurs devraient être plus de 3,5 fois plus rapide qu’un PC d’il y a cinq ans en ce qui concerne ses performances graphiques. De plus, une attention très particulière a été portée sur l’optimisation des dispositifs de réalité augmentée qui devraient se démocratiser aux prochains semestres.

Néanmoins, même si la prochaine génération de transistors gravés en dix nanomètres devrait voir le jour dans les prochaines années, la plupart des industriels ont déjà abandonné l’idée d’une production commerciale de transistors gravés en sept nanomètres. Les espoirs se tournent donc vers des alternatives au silicium tel le InGaAs et l’InP avant de pouvoir surmonter les problèmes intrinsèques du Graphene par exemple, ou de voir émerger un ordinateur quantique fonctionnel.

Source : http://www.timesofisrael.com/haifa-team-sires-intels-fastest-ever-processor/
Rédacteur : Fabien Lafont, Post-doctorant, Institut Weizmann